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      三星計(jì)劃2026年量產(chǎn)8nm車用eMRAM:比14nm密度高30%

      發(fā)布日期:2023-10-20 16:29:21 瀏覽:
      三星計(jì)劃2026年量產(chǎn)8nm車用eMRAM:比14nm密度高30%

      IT之家 10 月 20 日消息,三星主辦的 2023 年歐洲三星代工論壇(SFF)上,展示了從先進(jìn) 2nm 工藝到傳統(tǒng) 8 英寸工藝在內(nèi)的諸多代工解決方案,并展示了正在開發(fā)中的首款 5 納米 eMRAM 車用存儲。

      eMRAM 是用于汽車應(yīng)用的下一代存儲半導(dǎo)體,可實(shí)現(xiàn)高讀寫速度以及卓越的耐熱性。

      三星于 2019 年開發(fā)并量產(chǎn)業(yè)界首款基于 28nm FDSOI 的 eMRAM 以來,一直在開發(fā)基于 AECQ100 Grade 1 的 FinFET 工藝的 14nm 工藝。

      IT之家從報道中獲悉三星電子公布了路線圖,計(jì)劃在 2024 年量產(chǎn) 14nm 工藝 eMRAM,并計(jì)劃在 2026 年量產(chǎn) 8nm、2027 年量產(chǎn) 5nm。與 14 納米工藝相比,三星 8 納米 eMRAM 具有將密度提高 30%、速度提高 33% 的潛力。

      三星表示通過采用深溝槽隔離 (DTI) 技術(shù),縮小每個晶體管之間的距離,最大限度地發(fā)揮功率半導(dǎo)體的性能。

      三星代工廠將使用 120V(當(dāng)前為 70V)的更大電壓應(yīng)用于更廣泛的應(yīng)用,并準(zhǔn)備好在 2025 年之前提供實(shí)現(xiàn) 120V 至 130nm BCD 工藝的工藝開發(fā)套件 (PDK)。

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