光刻新技術(shù)問(wèn)世，佳能叫板阿斯麥

參考消息網(wǎng)10月20日?qǐng)?bào)道據(jù)日本《朝日新聞》10月19日?qǐng)?bào)道，日本佳能公司歷時(shí)10年開(kāi)發(fā)出的新技術(shù)產(chǎn)品——可用于半導(dǎo)體制造的一種光刻設(shè)備——已經(jīng)正式開(kāi)售。日本制造企業(yè)曾經(jīng)壟斷光刻機(jī)市場(chǎng)，但后來(lái)被荷蘭的阿斯麥(ASML)碾壓。上述新設(shè)備能否動(dòng)搖阿斯麥的霸主地位將備受關(guān)注。

佳能公司18日在橫濱市舉行了技術(shù)展示會(huì)，展示了新的“納米壓印”光刻設(shè)備。這是一種在半導(dǎo)體晶圓上繪制精密電路的設(shè)備。

2月25日，橫濱舉辦的一場(chǎng)展覽上懸掛的佳能公司標(biāo)志。（法新社）

這一新技術(shù)運(yùn)用了佳能公司擅長(zhǎng)的噴墨打印機(jī)和照相機(jī)技術(shù)，就像打印機(jī)滴墨一樣，將極少的樹(shù)脂滴到半導(dǎo)體晶圓上。類(lèi)似蓋印章的原理，將刻有凹凸電路圖案的掩模壓印到晶圓上制成電路。據(jù)悉在這一過(guò)程中，晶圓和掩模的位置相差不到幾納米。

現(xiàn)在占主流的光刻設(shè)備采用的是通過(guò)強(qiáng)光照射將電路蝕刻在晶圓上的方式。為了使強(qiáng)光變細(xì)，需要用到很多透鏡和反射鏡，還必須經(jīng)過(guò)多次反復(fù)照射。這種方式不僅制造成本高，而且耗電量大，對(duì)環(huán)境的負(fù)荷也是一個(gè)課題。

“納米壓印”設(shè)備由于不使用強(qiáng)光，耗電量?jī)H為光刻設(shè)備的十分之一，電路可一次就能壓印制成，因此制造成本也很低。這種設(shè)備本身也比其他公司高達(dá)幾百億日元的設(shè)備更便宜。

半導(dǎo)體的電路線寬越細(xì)，性能越高。用于高性能智能手機(jī)和人工智能的尖端產(chǎn)品線寬已細(xì)至2納米。“納米壓印”方式可以做到線寬5納米的產(chǎn)品，甚至挑戰(zhàn)最先進(jìn)的2納米產(chǎn)品。

光刻設(shè)備市場(chǎng)在20至30年前幾乎被佳能和尼康兩家公司壟斷。但是，其后它們?cè)诩夹g(shù)開(kāi)發(fā)上落后于阿斯麥，現(xiàn)在該公司擁有90%以上的市場(chǎng)占有率。

“納米壓印”是佳能公司為了對(duì)抗阿斯麥，從10年前開(kāi)始就進(jìn)行技術(shù)開(kāi)發(fā)的設(shè)備。佳能公司董事長(zhǎng)兼社長(zhǎng)御手洗富士夫表示，要“成為游戲規(guī)則改變者”，意欲扭轉(zhuǎn)局面。