光刻新技術問世，佳能叫板阿斯麥

參考消息網10月20日報道據日本《朝日新聞》10月19日報道，日本佳能公司歷時10年開發出的新技術產品——可用于半導體制造的一種光刻設備——已經正式開售。日本制造企業曾經壟斷光刻機市場，但后來被荷蘭的阿斯麥(ASML)碾壓。上述新設備能否動搖阿斯麥的霸主地位將備受關注。

佳能公司18日在橫濱市舉行了技術展示會，展示了新的“納米壓印”光刻設備。這是一種在半導體晶圓上繪制精密電路的設備。

2月25日，橫濱舉辦的一場展覽上懸掛的佳能公司標志。（法新社）

這一新技術運用了佳能公司擅長的噴墨打印機和照相機技術，就像打印機滴墨一樣，將極少的樹脂滴到半導體晶圓上。類似蓋印章的原理，將刻有凹凸電路圖案的掩模壓印到晶圓上制成電路。據悉在這一過程中，晶圓和掩模的位置相差不到幾納米。

現在占主流的光刻設備采用的是通過強光照射將電路蝕刻在晶圓上的方式。為了使強光變細，需要用到很多透鏡和反射鏡，還必須經過多次反復照射。這種方式不僅制造成本高，而且耗電量大，對環境的負荷也是一個課題。

“納米壓印”設備由于不使用強光，耗電量僅為光刻設備的十分之一，電路可一次就能壓印制成，因此制造成本也很低。這種設備本身也比其他公司高達幾百億日元的設備更便宜。

半導體的電路線寬越細，性能越高。用于高性能智能手機和人工智能的尖端產品線寬已細至2納米。“納米壓印”方式可以做到線寬5納米的產品，甚至挑戰最先進的2納米產品。

光刻設備市場在20至30年前幾乎被佳能和尼康兩家公司壟斷。但是，其后它們在技術開發上落后于阿斯麥，現在該公司擁有90%以上的市場占有率。

“納米壓印”是佳能公司為了對抗阿斯麥，從10年前開始就進行技術開發的設備。佳能公司董事長兼社長御手洗富士夫表示，要“成為游戲規則改變者”，意欲扭轉局面。