5nm芯片無需光刻機！中國科技公司已申請制造專利

【手機中國新聞】9月15日，手機中國注意到，天眼查App顯示，上海創(chuàng)消新技術發(fā)展有限公司申請的“5納米芯片制造的直接蝕刻方法”專利公布。摘要顯示，該發(fā)明涉及芯片設計及制造，方案是：按5nm蝕刻線寬設計芯片版圖，設計蝕刻掩模版后，用激光直寫光刻機刻出蝕刻掩模版；晶圓準備好后將蝕刻掩模版緊靠晶圓上表面，用等離子體進行干法蝕刻，蝕刻結束后移去蝕刻掩模版，清潔晶圓，進行后續(xù)常規(guī)的芯片制造步驟。這項發(fā)明的亮點在于，不用EUV光刻機或DUV光刻機，不需要光刻過程，直接蝕刻就可以制造5納米芯片。

天眼查顯示，上海創(chuàng)消新技術發(fā)展有限公司成立于2019年3月，法定代表人為劉明革，注冊資本50萬人民幣，經營范圍包括電子技術、化工技術、建筑技術、生物技術領域內的技術開發(fā)等，由劉明革和劉佳慧共同持股。

未來幾年，我們期待上海創(chuàng)消新技術發(fā)展有限公司能夠在芯片制造領域取得更多的突破性成果，并將這項新技術推向商業(yè)化階段。對于整個半導體行業(yè)來說，這種創(chuàng)新技術的出現(xiàn)無疑帶來了新的希望和動力，推動行業(yè)不斷向前發(fā)展，邁向更先進的制造工藝和更廣闊的應用領域。盡管目前這項技術還處于實驗室階段，但是其潛在的影響力不容忽視。