消息稱三星將投資10萬億韓元用于采購ASML EUV光刻機

IT之家 11 月 15 日消息，韓國今日電子新聞報道稱，三星計劃進口更多 ASML 極紫外（EUV）光刻設備。

雖然由于合同中的保密條款未能披露具體細節(jié)，但證券市場消息稱，該協(xié)議將使 ASML 在五年內提供總共 50 套設備，而每臺單價約為 2000 億韓元（IT之家備注：當前約 11.02 億元人民幣），總價值可達 10 萬億韓元（當前約 551 億元人民幣）。

目前尚不清楚其合同中的產品是現(xiàn)有 EUV 光刻設備還是下一代“High NA EUV”光刻設備。不過，目前 EUV 光刻設備最大的問題是產量有限。據(jù)官方介紹，它“比衛(wèi)星部件還復雜”，每年只能生產很有限的數(shù)量。據(jù)說去年是 40 臺，今年 ASML 估計是 60 臺。而目前需要且能購買到 EUV 光刻設備的廠商有五家：三星電子、臺積電、英特爾、SK 海力士和美光。其中，臺積電約占供應量的 70%，剩下四家公司爭奪剩下的 30%。

三星電子于去年 6 月推出了全球首個采用全柵極（GAA）技術的 3nm 代工技術，因此該公司一直在努力確保采購更多 EUV 光刻設備，目標是在明年上半年進入 3nm 世代的第二代工藝，在 2025 年進入 2nm 工藝，在 2027 年進入 1.4nm 工藝。

正因如此，李在镕董事長去年 6 月訪問了 ASML 總部，與首席執(zhí)行官 Peter Bennink 討論了 EUV 采購問題，并在同年 11 月訪問韓國期間與 Bennink 進行了進一步會談。鑒于 EUV 的交付周期（從下單到收貨）至少需要一年，這些會議看起來確實取得了實際成果。

實際上，半導體領域分析師也對三星電子增購 EUV 光刻設備的計劃持積極態(tài)度。

祥明大學系統(tǒng)半導體工程教授 Lee Jonghwan 說道：“三星已引進數(shù)十臺 EUV 光刻設備，據(jù)說每臺設備的成本約為 2000 億韓元，這表明該公司打算擴大 3nm 量產機會，并在未來實現(xiàn) 2nm 計劃。”

此前，三星電子宣布計劃到 2025 年擁有 100 臺 EUV 光刻機。市場估計三星目前的 EUV 機群約為 40 臺。如果這 50 臺設備的能夠順利交付，那么三星到 2028 年將能夠擁有約 100 臺設備。

荷蘭應用科學研究所（TNO）韓國代表 Byunghoon Park 解釋稱說：“通常情況下，半導體工藝可以將每臺機器的 10% 用于工藝研發(fā)和測試，擁有 100 臺機器則意味著它們可以全天候用于研發(fā)?！?/p>

他還指出，“通過這樣做，我們將能夠確保有足夠的工藝能力來正確使用設備”，他補充說，“ 預計這將減少工藝過程中的時間和成本，并提高產量?！?/p>

“一旦我們擁有了大量的（EUV）設備，并且技術趨于穩(wěn)定，我們將能夠提高產量，并在代工方面取得進展” ，工業(yè)研究所的專家研究員金陽邦（Kim Yangpang）說。